分子内のイオン位置を電場で切り替え、記録する材料を開発する

分子内のイオン位置で分極を保持・切り替える単分子誘電体(SME)を開発し、メモリやコンデンサなどの材料・デバイス応用を目指す技術。

株式会社マテリアルゲート 広島大学発 / 広島県 東広島市 / 2023年設立
研究発の技術 単分子誘電体 ポリオキソメタレート 分子材料 誘電体 不揮発性メモリ 半導体材料
実用化の段階
研究実証販売
コンデンサ用途では顧客企業が試作した製品に材料サンプルを使い特性評価中で、メモリは試作・評価段階と公表されている。
3製品
5提携・顧客
3特許
5出資者

しくみ

解こうとしている課題

従来の不揮発性メモリでは微細化・高密度化に限界があり、コンピュータで消費電力の大きい揮発性メモリを代替する技術も実用化されていない。

どう動くか

籠状のポリオキソメタレート分子の内部には、金属イオンが安定して存在できる位置が複数あります。電場でイオンを別の位置へ移すと分子の分極が切り替わり、位置の違いを情報として保持できます。従来は分子単体では難しいと考えられていた強誘電的なメモリ効果を、室温以上で示す点が特徴です。

できるようになること

メモリやコンデンサに応用できれば、記録の高密度化や低消費電力化、小型化に寄与する可能性がある。広島大学は記録密度向上の可能性を示し、NEDOは揮発性メモリを代替する次世代不揮発性メモリの実用化を目標としている。現時点ではデバイスの試作・評価段階。

技術の出自:広島大学大学院理学研究科・先進理工系科学研究科の化学分野、集積化学研究。JST START「籠型分子を用いた超高密度不揮発性メモリおよび超低消費電力AIチップの開発」。 出典1 出典2 出典3 出典4 出典5

使われる場面

  • 不揮発性メモリ
  • ディスクリートコンデンサ
  • センサ
  • 単分子誘電体デバイスの技術供与
  • 材料の機能探索支援

優位性の主張

大学の発表
単分子で分極ヒステリシスを示す材料を世界で初めて実証したと広島大学が発表。大学ページは、メモリ化した場合に市販不揮発性メモリ比で記録密度を1000倍以上にできる可能性を示す。 出典
会社の主張
単分子誘電体を「小さく、低環境負荷で、高性能」と位置づけ、メモリ、コンデンサ、センサへの展開を掲げている。 出典

製品・サービス

試験導入
単分子誘電体(SME)材料

籠状分子内部のイオン移動により分極を示す材料。顧客向けサンプルの提供とコンデンサ用途の評価が進行中。 出典

半導体・電子部品・材料メーカー。評価中のユーザー企業名は非公表。
実証
単分子誘電体メモリデバイス

SMEを使う不揮発性メモリ。材料のスケールアップ、薄膜形成、メモリデバイスの試作・評価を進めている。 出典

半導体メーカー、メモリメーカー。特定顧客向けの試作を目標としている。
試験導入
単分子誘電体コンデンサ

SMEを応用するディスクリートコンデンサ。ユーザー企業が試作した製品の特性を評価中。 出典

電子部品メーカーなど。評価中の企業名は非公表。

これまでの歩み 新しい順

2026-05
助成
広島県 令和7年度競争力強化研究開発等支援補助金。3,217万円 出典
2026-02
資金調達
シードエクスパンション。金額は非公表 出典
2026-01
海外出展
米国:CES 2026の日本企業パビリオン「JAPAN TECH」に出展した。 出典
2024-12
助成
NEDO GX分野STS助成。2.79億円 出典
2024-11
助成
NEDO「低消費コンピュータに資する単分子誘電体メモリの実用化開発(GX分野ディープテック・スタートアップ支援事業)」 出典
2024-09
受賞
リバネス/TECH PLANTER「ディープテックグランプリ2024 綜研化学賞」 出典
2024-07
資金
シード。1.6億円。インキュベイトファンド株式会社、UntroD Capital Japan株式会社、東京応化工業株式会社、株式会社広島ベンチャーキャピタル、株式会社日本政策金融公庫 出典
2024-07
資本提携
インキュベイトファンド株式会社:2024年シード調達の第三者割当増資引受先。 出典
2024-07
提携
日本政策金融公庫:2024年シード調達で資本性劣後ローンを実施。 出典

提携先・顧客

資本提携
インキュベイトファンド株式会社 2024年シード調達の第三者割当増資引受先。 出典
資本提携
UntroD Capital Japan株式会社 2024年シード調達の第三者割当増資引受先。 出典
資本提携
東京応化工業株式会社 2024年シード調達の第三者割当増資引受先。 出典
資本提携
広島ベンチャーキャピタル株式会社 2024年シード調達の第三者割当増資引受先。 出典
提携
日本政策金融公庫 2024年シード調達で資本性劣後ローンを実施。 出典

特許

3 件 出典
Google Patents、広島大学産学連携ページ、会社名検索で確認できた3件を記録。企業の現出願人表示2件と大学名義の基礎特許1件で、網羅的な全件数ではない。
主な分野ポリオキソメタレート分子・分子分極・分子メモリ、単分子誘電体を用いた圧電材料・圧電素子
海外出願True
分子性金属酸化物クラスター、分子性金属酸化物クラスター結晶、分子メモリ等(JP6650138B2) 国立大学法人広島大学 / 登録 出典
Molecular memory and method of manufacturing molecular memory(US12127416B2、JP7295585B2、WO2021044743A1) Material Gate Inc(Google Patents記載の現出願人。原出願人は広島大学) / 米国・日本で登録、WO出願は ceased と表示 出典
Piezoelectric material and piezoelectric element(US20250178904A1、WO2023167277A1、JPWO2023167277A1、CN118975437A) Material Gate Inc(Google Patents記載の現出願人。原出願人は広島大学) / 出願中 出典

会社の規模

資本金7,300万円(2025-02時点) 出典
公式サイトmaterialgate.com
決算期売上高純利益純資産総資産
2025-05-31—-7,826万円7,043万円1.07億円 出典

決算公告など、公表された数字だけ。

大学との関係

大学の認定
広島大学 広島大学認定スタートアップとして公式サイトに掲載されている。 出典
大学の施設
広島大学 本社研究所の所在地として広島大学インキュベーションオフィス2号室を掲載している。 出典
大学の出資
広島大学 大学の令和6事業年度財務諸表に、株式会社マテリアルゲートの新株予約権が計上されている。 出典

出資者(公開情報で確認できた5社)

事業会社(CVCを含む) 1独立系VC 2銀行・金融機関系 1公的機関・財団 1

会社や出資者の発表から確認した。出資者の種類は、AIが社名から付けたもの。個人の株主は載せていない。*は、出典のページで社名を機械的に照合できなかったもの。

調査日:2026-10-03
このページの出典:20件
法人番号:9240001061711
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