低温プラズマと光で、樹脂や金属の表面を改質する

大気圧低温プラズマと光化学反応を使い、樹脂・金属などの表面を改質する装置とプロセス技術。

クレスール株式会社 群馬大学発 / 群馬県 桐生市 / 2008年設立
研究発の技術 大気圧低温プラズマ プラズマジェット 表面改質 光化学 材料プロセス メタライゼーション
実用化の段階
研究実証販売
会社プロフィールはCAPPLATの上市と2013~2017年のCAPPLAT・CAPPLAS外販を記載し、大学の資料も装置の開発・製造・販売と受託試験を確認している。
4製品
1提携・顧客
2特許
0出資者

しくみ

解こうとしている課題

材料表面の接着・めっきなどが難しい場合や、試作で得た表面処理を量産工程で再現しにくい課題に取り組む。

どう動くか

大気圧下で発生させた低温プラズマを材料表面に当て、表面の性質を変える。光を使う化学反応も表面処理に用いる。会社は、プラズマなどの物理処理と化学反応を組み合わせ、材料や用途に合わせた処理条件を整えて量産工程につなげると説明している。2026年の展示情報では、PTFEなど難処理材のメタライゼーション向けプロセスは開発途上とされる。

できるようになること

会社は、表面処理を量産工程に移し、既存材料に新たな機能を付与することや、より環境に配慮した化学プロセスの実現を目指すと説明している。

技術の出自:群馬大学大学院理工学府の材料表面劣化・耐久性研究分野。公表資料に研究プロジェクト名の記載は確認できず。 出典1 出典2 出典3 出典4

使われる場面

  • 樹脂・フィルムの表面改質
  • 金属表面の改質
  • 難処理材へのめっき・メタライゼーション
  • 繊維などの連続式表面処理
  • 光化学反応を利用する材料表面処理

優位性の主張

会社の主張
大気圧低温プラズマ、光化学反応、反応性薬剤などを組み合わせ、材料ごとの処理条件をレシピ化して研究成果を量産へつなぐと主張。 出典
会社の主張
独自開発のプラズマ装置と光化学技術で、プラスチック、カーボン、セラミック、金属などの表面に機能を付与すると説明。 出典
会社の主張
PTFEなどの難処理材のメタライゼーションで、量産可能性を意識したプロセスを開発中と説明。 出典

製品・サービス

販売中
CAPPLAT

大気圧低温プラズマジェット発生装置。材料表面の処理に使う。 出典

材料・製造分野の企業、大学・研究機関
販売中
CAPPLAS

大気圧プラズマ発生装置・電極。表面改質や処理プロセスに使う。 出典

材料・製造分野の企業、大学・研究機関
販売中
表面・界面処理の受託、技術指導・コンサルティング

プラズマ等を使った処理試験、結果解釈、処理プロセス開発を支援。 出典

材料・製造分野の企業、大学・研究機関
研究段階
PTFE等の難処理材向けメタライゼーションプロセス

CAPPLASを使い、難処理材への金属形成を量産可能な工程にするプロセスを開発。 出典

難処理材を扱う材料・製造分野の企業

これまでの歩み 新しい順

2024-07
採択
福島イノベーション・コースト構想推進機構「令和6年度 Fukushima Tech Create ビジネスアイデア事業化プログラム採択(プラズマ触媒化学でバイオガス中のCO2を燃料に!)」 出典
2024-06
助成
群馬県「令和6年度 ぐんま技術革新チャレンジ補助金採択(大気圧低温プラズマ発生装置の反応空間制御機構の開発)」 出典
2022-08
受賞
ぐんま次世代産業創出・育成コンソーシアム「第2回ぐんまテックプラングランプリ しののめ信用金庫賞」 出典
2020-02
共同開発
国立大学法人群馬大学:プラズマ発生装置に関する共同出願特許を確認。 出典

提携先・顧客

共同開発
国立大学法人群馬大学 プラズマ発生装置に関する共同出願特許を確認。 出典

特許

2 件 出典(Gビズインフォ)
会社名を出願人・権利者とする公開特許記録と会社プロフィールを調査して確認した2件。網羅的な全出願件数を保証するものではない。
主な分野プラズマ発生装置・電極、プラズマ処理装置・材料表面改質
特許第6967227号「電極装置、プラズマ発生装置」(特開2020-030965) 国立大学法人群馬大学、クレスール株式会社 / 登録 出典
特願2025-009082「プラズマ処理装置」(特開2026-125292) クレスール株式会社 / 出願中(公開公報) 出典

会社の規模

資本金100万円(2008時点) 出典
大学との関係教職員等ベンチャー
公式サイトcresur.com

大学との関係

大学との関係
群馬大学 群馬大学の公表資料に、大学教員の同社での兼業と表面処理プロセス開発等が記載されている。会社プロフィールは群馬大学との共願特許の取得を記載。認定ベンチャー、施設入居、大学出資は確認できなかった。 出典
調査日:2026-10-03
このページの出典:9件
法人番号:9010001121298
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