プラズマやイオンビームで難しい材料の表面を加工
ECR（電子サイクロトロン共鳴）やICP（誘導結合）でプラズマを生成し、イオンビームや活性種を微細加工・表面処理に用いる装置技術。
ノベリオンシステムズ株式会社 同志社大学発 ／ 京都府 木津川市 ／ 2006年設立
研究発の技術 プラズマ ECR ICP イオンビーム 微細加工 薄膜形成
実用化の段階
研究実証販売
公式サイトがプラズマ応用装置の製造販売を掲げ、製品を掲載しており、LBS-120HCは2023年に発売したとする公的支援機関の紹介資料も確認できた。
6製品
2提携・顧客
4特許
0出資者
しくみ
解こうとしている課題
圧電薄膜や磁性薄膜など、従来のシリコン加工装置では加工が難しい材料に対応する微細加工装置や、表面処理・改質に使えるプラズマ源を提供する。
どう動くか
ECR方式では、磁場中の電子にマイクロ波を与えて共鳴的に加速し、ガスを電離してプラズマを作る。イオン源では電極でイオンを引き出し、ビームとして加工物に照射する。会社は、活性ガスに対応する高密度プラズマ源や大電流イオン源を開発・販売している。特許には小型化を狙う磁石配置や、イオンビーム源の構造が記載されている。
できるようになること
会社は、活性ガスを使える高密度プラズマ源と大電流イオンビーム源により、難加工材料の微細加工や薄膜形成を支援すると説明している。核融合分野では、プラズマ加熱用の中性粒子入射システムの設計・技術支援も掲げている。
技術の出自：同志社大学の理工学系における核融合プラズマ加熱用負イオン源・ECRプラズマ研究に関連する技術。会社は同技術を起源とする同志社大学発ベンチャーと紹介されている。 出典1 出典2 出典3 出典4 出典5
使われる場面
- 半導体・電子部品のイオンビームミリング
- 圧電薄膜・磁性薄膜などの微細加工
- 薄膜形成、エッチング、活性プラズマ処理
- 酸素・窒素ラジカル源、表面クリーニング
- CFCダイバータブロックの接合界面処理
- 核融合プラズマ加熱用中性粒子入射システムの開発支援
優位性の主張
製品・サービス
これまでの歩み 新しい順
提携先・顧客
特許
JP6283797B2 / WO2015-114992「プラズマ発生装置」 ノベリオンシステムズ株式会社 ／ 登録・有効（Google Patents表示） 出典
JP5254872B2「イオンビーム照射装置」 ノベリオンシステムズ株式会社 ／ 登録後、年金不納による消滅（Google Patents表示） 出典
JP2018081895A「高周波イオン源」 ノベリオンシステムズ株式会社 ／ 出願中（Google Patents表示） 出典
JP7316599B1 / WO2023243109A1「蒸気発生材料」 ノベリオンシステムズ株式会社 ／ 登録・有効（Google Patents表示） 出典
会社の規模
大学との関係
共同研究
同志社大学 科研費の研究成果報告書で、同志社大学理工学部と同社の研究協力関係が記載されています。 出典