微小な偏光素子を並べ、画像の画素ごとに偏光を測る
微小な偏光子・波長板を基板上に自在に配置する積層型フォトニック結晶と、それを使った光学素子・偏光計測装置。
株式会社フォトニックラティス 東北大学発 ／ 宮城県 仙台市青葉区 ／ 2002年設立
研究発の技術 フォトニック結晶 自己クローニング法 偏光光学素子 複屈折計測 偏光イメージング 光学計測
買収・子会社化 2020年に株式会社フォトロンが全株式を取得して子会社化し、公式サイトでは製品情報と2026年の更新を継続している。
実用化の段階
研究実証販売
会社は光学素子・計測装置の製造販売と受託計測を事業として掲げ、製品カタログを公開している。
6製品
3提携・顧客
17特許
3出資者
しくみ
解こうとしている課題
従来の光学計測では難しい偏光・複屈折・応力などの情報を、面として高速に捉え、材料や光学部品の評価・検査に使えるようにする。
どう動くか
屈折率の異なる薄膜を基板上に周期的に積層し、光の偏光や位相を制御する。微小な偏光素子の向きや配置を設計し、蒸着・エッチングを同時に行う「自己クローニング法」で素子を形成する。偏光素子アレイを撮像素子に組み合わせると、画像の各画素で偏光情報を取得できる。会社は自由なパターン設計と製造、計測装置への応用を強みとしている。
できるようになること
会社は、複屈折や応力、配向など従来見えにくかった現象の可視化・定量化を通じ、材料開発や品質管理、半導体・精密加工向けの光制御に役立つとしている。JSTは、自己クローニング法による偏光子の開発・製品化を記録している。
技術の出自：東北大学 電気通信研究所のフォトニック結晶研究。JSTプレベンチャー事業「フォトニック結晶による偏光子」から事業化。 出典1 出典2 出典3 出典4
使われる場面
- 透明樹脂・ガラスの応力、歪み、配向評価
- 光学フィルムの複屈折・光学ムラの全面検査
- 半導体ウェハー・ディスプレイ薄膜の膜厚分布測定
- 光学材料の分光偏光・複屈折計測
- 偏光・応力変化の高速撮影、材料試験
- 偏光子・波長板など光学素子の設計・製造
- 光通信、レーザー加工、半導体検査向けの光制御
優位性の主張
製品・サービス
これまでの歩み 新しい順
提携先・顧客
特許
17 件 出典（Gビズインフォ）
Gビズインフォ掲載の法人番号特定済み特許情報について、出願日2013〜2022年の収録範囲で確認した件数。別途Google Patentsで古い共同出願・新しい公開公報も確認した。
主な分野光学素子・偏光計測（G02）、光ビーム分岐・レーザー加工
共同出願人科学技術振興機構
海外出願True
JP4954975B2／WO2007108212A1「周期構造、周期構造の製造方法及び応用製品」 株式会社フォトニックラティス、科学技術振興機構 ／ WO出願は失効扱い。日本特許の登録状況はGoogle Patents掲載情報を参照。 出典
JP5254323B2「光学歪み計測装置」 株式会社フォトニックラティス ／ 登録 出典
JP2021071433A「偏光計測装置およびエリプソメータ」 株式会社フォトニックラティス ／ 出願中（Google Patents掲載情報） 出典
JP7303619B2「光ビーム分岐光回路及びレーザ加工機」 株式会社フォトニックラティス ／ 登録・有効（Google Patents掲載情報） 出典
WO2025164595A1「光配向露光用の偏光マスク、光配向露光方法、及び光学部品等の製造方法」 株式会社フォトニックラティス ／ 公開 出典
大学との関係
出資者（公開情報で確認できた3社）
事業会社（CVCを含む） 1独立系VC 2
会社や出資者の発表から確認した。出資者の種類は、AIが社名から付けたもの。個人の株主は載せていない。＊は、出典のページで社名を機械的に照合できなかったもの。